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隧道式蚀刻 Ti，Al，Cu 设备产品简介 晶圆级封装用隧道式蚀刻设备代替传统的浸泡式设备，为客户大幅提高生产产能，并解决浸泡式蚀刻固有的蚀刻不均，侧蚀严重等弊病 产品特点 1 药. 晶圆级封装化学镀镍、钯、金设备产品简介 为客户提供普通TSV电镀铜镍金，RDL电镀铜镍金，电镀镍钯金，Pillar-Bump电镀铜-锡等一站式服务 产品特点 该设备的设计颠覆传统的. RDL电镀铜产品简介 CZ210M/A/B/C/D是一种高性能直流硫酸铜体系电镀液，光泽剂消耗量低 其特强的均镀能力，使其适合应用于晶圆级封装中重布线制程 RDL 电镀,适合低厚度. Pillar/Post 电镀铜产品简介 CZ616 是一种高性能直流电镀溶液，光泽剂消耗量低 其特强的分散能力，高电流应用能力，使其适合应用于晶圆级封装中高纵横比的铜柱 Cu Pi. 中华人民共和国电信与信息服务业务经营许可证 编号 粤 ICP备08108366号.
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